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삼성전자‚ 평택 EUV 파운드리로 ‘2030 비전’ 박차
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삼성전자‚ 평택 EUV 파운드리로 ‘2030 비전’ 박차
  • 고광일 기자
  • 승인 2020.05.21 13:18
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이재용 부회장 “어려울 때일수록 미래 위한 투자 멈춰선 안돼”
▲ 반도체 평택2사업장을 방문해 신규라인 건설 현장을 점검하는 이재용 부회장.
▲ 반도체 평택2사업장을 방문해 신규라인 건설 현장을 점검하는 이재용 부회장.

삼성전자가 경기도 평택시에 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 파운드리(Foundry, 반도체 제조위탁) 생산시설 구축에 나섰다.

‘반도체 비전 2030’ 일정표에 맞춰 세부 전략를 차근차근 실행해가는 모습이다.

이재용 부회장은 최근 코로나19 여파와 반도체발(發) 미‧중무역 갈등 속에서도 지속적인 투자를 강조하며 ‘시스템 반도체 1위’ 달성을 위한 의지를 드러냈다.

21일 삼성전자에 따르면, 이재용 삼성전자 부회장은 평택 EUV 파운드리 라인 공사 착수를 재가하며 “어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안된다”고 정은승 파운드리사업부장(사장) 등에게 주문했다.

최근 코로나19와 미‧중무역분쟁 재개 등 세계경제의 불확실성이 커진 상황 속에서도 과거 위기 속에서 기회를 찾은 경험을 바탕으로 확실한 성과를 낼 수 있다는 자신감을 경영진과 실무진들에게 전달한 것이다.

이에 이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 오는 2021년 하반기부터 본격 가동할 계획이다.

삼성전자는 지난 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다.

여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.

또한 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다.

삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것”이라며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 밝혔다.

글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상되며, 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.

삼성전자는 지난해 4월 이재용 부회장이 선포한 ‘반도체 비전 2030’에 따라서 시스템 반도체 사업을 강화하는 행보를 이어가고 있다.

앞서 삼성전자는 지난해 4월 연구개발과 생산시설을 확충하는데 총 133조원을 투자해 오는 2030년까지 시스템 반도체 1위를 달성하겠다는 목표를 밝힌 바 있다.

전문인력 직접 채용규모도 1만5000명 수준이다.

이에 삼성전자는 올 들어 3나노미터 초미세공정 기술을 개발하고, 지난 2월엔 경기 화성사업장에 극자외선(EUV) 전용 V1 라인을 본격적으로 가동하기 시작했다.

이를 통해 지난달은 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 양산 체제도 갖췄다.

삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것”이라며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 밝혔다.

파운드리 뿐만 아니라 이미지센서 사업에서도 삼성전자는 기술력 향상에 박차를 가하고 있다.

지난해 5월에는 세계 최초로 6400만 화소를 개발했고, 6개월 후에는 1억800만 화소 이미지센서를 출시했다.

삼성전자는 사람 눈(5억 화소)을 능가하는 6억 화소 이미지센서를 포함한 기술 혁신을 위해 계속 도전할 계획이다.

이미지센서는 스마트폰을 넘어, 자율주행차‧IoT(사물인터넷)‧드론 등에서도 본격 사용될 것으로 예상된다.

삼성전자는 다양한 응용처에서 증가하는 고객 수요에 대응하기 위한 제품 라인업을 갖춰나간다는 방침이다.

아울러 삼성전자는 한국 시스템 반도체 생태계 강화 차원에서 국내 팹리스(반도체 설계전문) 업체지원도 나섰다.

파운드리 설계 자산(IP)에 대한 접근성을 높였고, SAFE 프로그램을 통해 협력사와 고객사들을 지원하고 있다.

국내 중소, 중견 팹리스 업체들을 위한 상생펀드에도 500억원을 출자했다.

실제로 삼성전자는 지난해 ‘반도체 2030 비전’ 발표 이후 대외 환경 변화 속에서도 계획된 투자를 지속 집행하고 있다.

삼성전자 연구개발(R&D)비는 지난해 20조2076억원으로 사상 처음 20조원을 넘어섰고, 임직원수도 10만5257명으로 사상 최대를 기록했다.

지난해부터 반도체 부문은 전 분야에 걸쳐 경력직을 대대적으로 뽑고 있다.

업계 관계자는 “삼성전자는 그동안 모바일 프로세서(AP, Application Processor)와 모뎀칩, 이미지센서 등의 시스템 반도체 분야에서 경쟁력을 쌓았지만 파운드리 사업에서 이렇다 할 성과를 거두지 못한 것으로 평가된다”며 “최근 EUV 등을 통한 공정 경쟁력 상승 등 7nm에서 경험을 쌓은 후 차세대 5nm 공정에서 삼성전자의 EUV 기술력이 빛을 발할 것으로 예상되며 메모리 반도체 단기 시황 악화에도 새로운 반도체 시장을 창조를 통해 지속가능한 성장을 이뤄 나가겠다는 목표를 달성할 것으로 기대한다”고 말했다.




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